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Ähnliche offene Ausschreibungen
Dual Beam Focused Ion Beam System (FIB) und Transmissionselektronenmikroskop (TEM)
Auf einen Blick
Institut für Oberflächen- und Schichttechnik GmbH schreibt Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser) (CPV 38000000) in Kaiserslautern, Kreisfreie Stadt (DEB32) aus. Sie ist in 2 Lose aufgeteilt; sie ist abgelaufen. Die Bekanntmachung nennt als Frist den 17. August 2026, 23:59 Uhr (UTC+02:00). Verfahrensart: Offenes Verfahren.
Aus der Bekanntmachung
Los1: DualBeam Focused Ion Beam Systems (FIB) Gegenstand ist die Lieferung, Installation, Inbetriebnahme sowie betriebsbereite Übergabe eines DualBeam Focused Ion Beam Systems (FIB) einschließlich Einweisung/Schulung und vollständiger Systemdokumentation. Die technischen Mindestanforderungen und Bewertungsaspekte ergeben sich aus den Dokumenten "Los1.25-1696.05.techn.Anforderungsprofil" und "Los1.25-1696.06.Wertungsmatrix". Los2: Transmissionselektronenmikroskop (TEM) Gegenstand ist die Lieferung, Installation, Inbetriebnahme sowie betriebsbereite Übergabe eines Transmissionselektronenmikroskops (TEM) einschließlich Einweisung/Schulung und vollständiger Systemdokumentation. Die technischen Mindestanforderungen und Bewertungsaspekte ergeben sich aus den Dokumenten "Los2.25-1707.05.techn.Anforderungsprofil" und "Los2.25-1707.06.Wertungsmatrix".
Eckdaten
Jede Angabe stammt aus der amtlichen Bekanntmachung, zuletzt geprüft am 10. November 2026, 09:30 Uhr (UTC+01:00).
- Status
- AbgelaufenAmtliche Bekanntmachung · geprüft am 10.11.2026, 09:30 Uhr (UTC+01:00)
- Frist
- Frist abgelaufen (vor 88 Tagen)Amtliche Bekanntmachung · geprüft am 10.11.2026, 09:30 Uhr (UTC+01:00)
- Auftraggeber
- Institut für Oberflächen- und Schichttechnik GmbH, Kaiserslautern, DEAmtliche Bekanntmachung · geprüft am 10.11.2026, 09:30 Uhr (UTC+01:00)
- Leistungsort
- Kaiserslautern, Kreisfreie Stadt (DEB32)Amtliche Bekanntmachung · geprüft am 10.11.2026, 09:30 Uhr (UTC+01:00)
- Haupt-CPV
- Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser) (CPV 38000000)Amtliche Bekanntmachung · geprüft am 10.11.2026, 09:30 Uhr (UTC+01:00)
- Verfahrensart
- Offenes VerfahrenAmtliche Bekanntmachung · geprüft am 10.11.2026, 09:30 Uhr (UTC+01:00)
- Lose
- 2Amtliche Bekanntmachung · geprüft am 10.11.2026, 09:30 Uhr (UTC+01:00)
- Erstmals veröffentlicht
- 15. Juli 2026, 17:22 Uhr (UTC+02:00)Amtliche Bekanntmachung · geprüft am 10.11.2026, 09:30 Uhr (UTC+01:00)
Faktenblatt
Lose (2)
Los LOT-0001: Dual Beam Focused Ion Beam System (FIB)
Ziel dieses Beschaffungsvorhabens ist die Lieferung, Installation, Inbetriebnahme sowie betriebsbereite Übergabe eines Dual-Beam-FIB/REM-Systems (Focused Ion Beam / Rasterelektronenmikroskop) einschließlich analytischer Detektorsysteme, Schulung und vollständiger Systemdokumentation. Das System dient primär der präzisen Probenpräparation (u.a. TEM-Lamellen, APT-Spitzen, Querschnitte und Defektfreilegungen) und sekundär der hochauflösenden bildgebenden, chemischen und strukturellen Charakterisierung (SEM, EDX, STEM, EBSD) im selben System. Das Gerät wird als zentrale Präparations- und Analyseplattform für wissenschaftliche Forschungsprojekte eingesetzt. Typische Anwendungen umfassen u. a. Batterie- und Elektrodenmaterialien, Wasserstoffspeichermaterialien, katalytische Schichten, Metalle/Legierungen, keramische Werkstoffe, Halbleiter, Beschichtungen und Multilayer-Systeme. Ein besonderer Schwerpunkt liegt auf: - reproduzierbarer, möglichst automatisierter TEM-Lamellen- und APT-Präparation (Lift-Out, Thinning, Polishing) - 3D-Analytik (Serienschliff/Tomographie) mit quantitativer Auswertung - hochaufgelöster Abbildung in verschiedenen SEM-Modi incl. Ioneninduzierter Sekundärionen sowie korrelierter Bildgebung während der Bearbeitung - chemischer Analytik mittels EDX und kristallographischer Analytik mittels EBSD Darüber hinaus ist eine strukturierte Erfassung und Exportfähigkeit von Messdaten und Metadaten in gängige, nicht-proprietäre Formate erforderlich, um Anforderungen an Nachvollziehbarkeit, Langzeitverfügbarkeit und Forschungsdatenmanagement (FAIR-Prinzipien) zu erfüllen. Das System muss die präzise Probenpräparation und -strukturierung mittels Ionenstrahl sowie die begleitende und nachfolgende Abbildung und Analytik mittels SEM und anderen Detektorsystemen ermöglichen. Ziel ist die reproduzierbare Präparation von Proben für TEM und APT sowie die Durchführung von 2D/3D-Analysen (Bildgebung (SE, STEM), EDX, EBSD) einschließlich vollständiger Dokumentation der Bearbeitungs- und Messparameter. Folgende Kernfunktionen sind zwingend bereitzustellen: 1. Materialabtrag/Strukturierung (manuell und automatisiert) mit definierbaren Pattern- und Rezeptfunktionen. 2. TEM-Lamellenpräparation inkl. In-situ Lift-Out, Thinning und abschließender Feinpolitur. 3. APT-Spitzenpräparation (Needle Milling) inkl. reproduzierbarer Geometrie. 4. Korrelierte Echtzeit-Bildgebung im SEM während der FIB-Bearbeitung (Navigation/Endpunktkontrolle). 5. Chemische Analytik mittels EDX sowie kristallographische Analytik mittels EBSD (Punkt, Linie, Mapping). 6. 3D-Workflows (Serienschliff/Tomographie) mit dokumentierter Rekonstruktion bzw. Export der Datensätze. 7. Workflow und Datenmanagement: eindeutige Zuordnung von Bearbeitungs-/Messdaten, Parametern und Metadaten; Export in nicht proprietäre Formate.
Los LOT-0002: Transmissionselektronenmikroskop (TEM)
Gegenstand des Beschaffungsvorhabens ist die Lieferung, Installation, Inbetriebnahme sowie betriebsbereite Übergabe eines aberrationskorrigierten 200 kV Transmissionselektronenmikroskops (S/TEM) einschließlich analytischer Detektorsysteme, Schulung und vollständiger Systemdokumentation. Das System dient als zentrale Analyseplattform für die hochauflösende strukturelle, chemische und elektronische Charakterisierung von Materialien auf atomarer und nanometergenauer Skala. Es wird sowohl für industrielle Auftragsanalytik als auch für wissenschaftliche Forschungsprojekte eingesetzt. Im Institut werden Materialien mit stark variierenden Eigenschaften untersucht, insbesondere Metalle, Legierungen, keramische Werkstoffe, Halbleiter, Beschichtungen, funktionale Schichtsysteme sowie nanostrukturierte Materialien. Die Proben unterscheiden sich hinsichtlich Geometrie, Stabilität gegenüber Elektronenstrahlbelastung sowie analytischer Fragestellungen. Ein besonderer Schwerpunkt liegt auf: - hochauflösender Abbildung bis in den atomaren Bereich - chemischer Analytik mittels EDX und EELS - Untersuchung von Grenzflächen und Defekten - Untersuchung magnetischer und funktionaler Materialien - reproduzierbaren Messungen über Probenserien hinweg Darüber hinaus ist eine strukturierte Erfassung und Exportfähigkeit von Messdaten und Metadaten in gängige, nicht-proprietäre Formate erforderlich, um Anforderungen an Nachvollziehbarkeit, Langzeitverfügbarkeit und Forschungsdatenmanagement (FAIR-Prinzipien) zu erfüllen. Das System muss die hochauflösende strukturelle, chemische und elektronische Analyse von festen, elektronenstrahlstabilen Proben im Transmissionselektronenmikroskopie- und Raster-Transmissionselektronenmikroskopie-Modus ermöglichen. Hierzu muss es eine präzise Elektronenoptik, stabile Betriebsbedingungen sowie integrierte analytische Detektionssysteme bereitstellen. Ziel ist die Untersuchung von Materialien bis in den atomaren Maßstab sowie die quantitative und qualitative Analyse von Struktur, Zusammensetzung und elektronischen Eigenschaften. Folgende Kernfunktionen sind zwingend bereitzustellen: 1. Hochauflösende Abbildung (TEM und STEM): - Abbildung von Kristallstrukturen, Defekten, Grenzflächen und Nanostrukturen mit atomarer bzw. sub-nanometergenauer Auflösung. - Betrieb sowohl im konventionellen TEM- als auch im STEM-Modus. - Flexible Wahl geeigneter Abbildungsmodi (z. B. Bright Field, Dark Field, HAADF, ABF, Oberflächenbildgebung mit topografieabhängigem Kontrast). 2. Chemische und spektroskopische Analytik: - Elementanalytik mittels energiedispersiver Röntgenspektroskopie (EDX). - Analyse elektronischer und chemischer Zustände mittels Elektronenenergieverlustspektroskopie (EELS). - Durchführung von Punktanalysen, Linienprofilen sowie zweidimensionalem Mapping. 3. Untersuchung von Grenzflächen und Defekten: - Analyse von Phasengrenzen, Ausscheidungen, Korngrenzen und strukturellen Inhomogenitäten. - Untersuchung lokaler chemischer Variationen auf nanoskaliger Ebene. 4. Untersuchung funktionaler und magnetischer Materialien: - Möglichkeit zur magnetfeldfreien oder feldarmen Abbildung (z. B. Lorentz-Modus oder funktional gleichwertig), soweit erforderlich. 5. Automatisierter und reproduzierbarer Betrieb: - Reproduzierbare Einstellung von Messparametern und Speicherung von Messabläufen. - Unterstützung automatisierter Messreihen und Mapping-Experimente. 6. Workflow und Datenmanagement: - Eindeutige Zuordnung von Messdaten, Parametern und Metadaten. - Möglichkeit zur späteren Reproduktion von Messbedingungen. 7. Integration aller Detektoren und Betriebsmodi in eine konsistente Bedienumgebung.
Verlauf
- 15. Juli 2026, 17:22 Uhr (UTC+02:00): Erstbekanntmachung Bekanntmachung, Version 01 (Auftrags- oder Konzessionsbekanntmachung – Standardregelung). Amtliche Bekanntmachung
Auftraggeber und Ort
Auftraggeber
Institut für Oberflächen- und Schichttechnik GmbH
Kaiserslautern, DE
Leistungsort
- Kaiserslautern, Kreisfreie Stadt (DEB32)
Einordnung
CPV-Codes
- 38000000: Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser)
NUTS-Regionen
- DEB32: Kaiserslautern, Kreisfreie Stadt
Amtliche Unterlagen
Die Links führen zum Herausgeber. Inteliwert kopiert die Unterlagen nicht.
Fragen und Antworten
Wann endet die Frist?
Die amtliche Bekanntmachung nennt als Frist den 17. August 2026, 23:59 Uhr (UTC+02:00).
Wer ist der Auftraggeber?
Institut für Oberflächen- und Schichttechnik GmbH, Kaiserslautern, DE.
Was wird beschafft (CPV)?
Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser) (CPV 38000000).
Wo wird die Leistung erbracht (NUTS)?
Kaiserslautern, Kreisfreie Stadt (DEB32).
Ist die Ausschreibung in Lose aufgeteilt?
Ja, in 2 Lose: Dual Beam Focused Ion Beam System (FIB) und Transmissionselektronenmikroskop (TEM).
Welche Verfahrensart gilt?
Offenes Verfahren.
Wie gebe ich ein Angebot ab?
Über die amtliche Bekanntmachung oder das darin genannte Portal. Inteliwert gibt keine Angebote ab. Amtliche Bekanntmachung
Bin ich teilnahmeberechtigt?
Inteliwert beurteilt keine Teilnahmeberechtigung. Die Eignungskriterien stehen in der amtlichen Bekanntmachung. Amtliche Bekanntmachung
Weitere Ausschreibungen dieses Auftraggebers
Weitere veröffentlichte Ausschreibungen dieses Auftraggebers in den indexierten Bekanntmachungen, offene zuerst.
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AbgelaufenAusschreibung
Lasermikrobearbeitungsanlage und Lasersystem
Zuletzt geprüft am 10.11.2026, 09:30 Uhr (UTC+01:00)Amtliche Bekanntmachung -
VergebenAusschreibung
Spektrometer XPS 2026
Zuletzt geprüft am 11.11.2026, 14:31 Uhr (UTC+01:00)Amtliche Bekanntmachung -
VergebenAusschreibung
LIBS-Mikroskop 2026
Zuletzt geprüft am 11.11.2026, 01:31 Uhr (UTC+01:00)Amtliche Bekanntmachung -
AbgelaufenAusschreibung
ToF-SIMS 2026 (Neuausschreibung)
Zuletzt geprüft am 11.11.2026, 12:31 Uhr (UTC+01:00)Amtliche Bekanntmachung
Quelle
- Herausgeber
- Bekanntmachungsservice
- Lizenz
- CC0 1.0
- Amtliche Bekanntmachung
- https://oeffentlichevergabe.de/ui/de/notices/c6abad07-e17d-4e42-b1fc-35d01bf3fcf6
- Zuletzt geprüft
- 10. November 2026, 09:30 Uhr (UTC+01:00)
Maßgeblich ist die amtliche Bekanntmachung. Inteliwert zeigt, was in ihr steht, und verlinkt sie.