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VergebenAusschreibung

Spektrometer XPS 2026

Auf einen Blick

Institut für Oberflächen- und Schichttechnik GmbH schreibt Spektrometer (CPV 38433000) in Kaiserslautern, Kreisfreie Stadt (DEB32) aus. Der Zuschlag ist erteilt. Verfahrensart: Verhandlungsverfahren ohne Aufruf zum Wettbewerb.

Aus der Bekanntmachung

Beschaffung eines bildgebenden Mikrobereichs-Röntgen-Photoelektronen-Spektrometer (µ-XPS) mit integrierten Analysemethoden

Eckdaten

Jede Angabe stammt aus der amtlichen Bekanntmachung, zuletzt geprüft am 11. November 2026, 14:31 Uhr (UTC+01:00).

Status
VergebenAmtliche Bekanntmachung · geprüft am 11.11.2026, 14:31 Uhr (UTC+01:00)
Frist
Keine Frist in der BekanntmachungAmtliche Bekanntmachung · geprüft am 11.11.2026, 14:31 Uhr (UTC+01:00)
Auftraggeber
Institut für Oberflächen- und Schichttechnik GmbH, Kaiserslautern, DEAmtliche Bekanntmachung · geprüft am 11.11.2026, 14:31 Uhr (UTC+01:00)
Leistungsort
Kaiserslautern, Kreisfreie Stadt (DEB32)Amtliche Bekanntmachung · geprüft am 11.11.2026, 14:31 Uhr (UTC+01:00)
Haupt-CPV
Spektrometer (CPV 38433000)Amtliche Bekanntmachung · geprüft am 11.11.2026, 14:31 Uhr (UTC+01:00)
Verfahrensart
Verhandlungsverfahren ohne Aufruf zum WettbewerbAmtliche Bekanntmachung · geprüft am 11.11.2026, 14:31 Uhr (UTC+01:00)
Lose
1Amtliche Bekanntmachung · geprüft am 11.11.2026, 14:31 Uhr (UTC+01:00)
Erstmals veröffentlicht
17. Juni 2026, 19:52 Uhr (UTC+02:00)Amtliche Bekanntmachung · geprüft am 11.11.2026, 14:31 Uhr (UTC+01:00)
Zuletzt veröffentlicht
9. Juli 2026, 13:40 Uhr (UTC+02:00)Amtliche Bekanntmachung · geprüft am 11.11.2026, 14:31 Uhr (UTC+01:00)

Faktenblatt

Inteliwert-Faktenblatt: Spektrometer XPS 2026 – Institut für Oberflächen- und Schichttechnik GmbH. Ein Produkt der Bandpey GmbH.
Die Eckdaten dieser Seite als Bild (PNG, 1600 × 900), erstellt aus der amtlichen Bekanntmachung. © Bandpey GmbH; Nutzungsbedingungen. Faktenblatt herunterladen

Lose (1)

  1. Los LOT-0001: Spektrometer XPS 2026

    Die nachfolgend aufgeführten Funktionen stellen zwingende Mindestanforderungen für die Beschaffung dar. M1 - Bildgebende hochortsauflösende Röntgenphotoelektronenspektroskopie (XPS) als Kerntechnologie (µ-XPS). Das System muss Röntgenphotoelektronenspektroskopie (XPS) mit monochromatischer Al K(alpha)-Strahlung durchführen können. Die Energieauflösung muss <= 0,5 eV (FWHM Ag 3d5/2), auch auf isolierenden Proben betragen. Die laterale Auflösung muss <= 10 µm (Spotgröße) erreichen. Auch gefordert ist eine Bild-gebende XPS Analytik, bei der voll quantifizierbare Element-Konzentrations-Verteilungen aufgenommen werden können. Die möglichen Bildbereiche sollen dabei von ca. 100 Mikrometer Durchmesser bis in den Bereich mehrerer Millimeter reichen. Zudem ist (bei hohen Vergrößerungen) eine Lateralauflösung <=10 µm gefordert. Die technische Realisierung kann sowohl durch Rastern des Röntgenstrahls, Verfahren der Stage oder elektronenoptische Abbildungen der Analysator-Eintrittsblende erfolgen. Zudem sollen chemische Bindungszustände auch in der Bildgebung unterschieden werden können. Die Bildgebung muss zwingend auf isolierenden, magnetisierbaren, magnetischen Proben ohne entscheidende Verluste an Sensitivität, energetischer und räumlicher Auflösung möglich sein. Falls eine magnetische Immersionslinse unter der Probenebene genutzt wird muss der Anbieter nachweisen, dass auch stark magnetische Proben ohne Qualitätseinbußen charakterisiert werden können. M2 - Simultane Ladungsneutralisierung mit niederenergetischen Elektronen und Ar-Ionen. Das System muss über eine Ladungskompensation verfügen, die aus einer einzigen koaxialen Quelle oder aus zwei steuerungstechnisch gekoppelten Quellen simultan oder alternierend mit geeigneten Schaltzeiten niederenergetische Elektronen und Ar-Ionen emittiert, um so eine automatische, quasi-stationäre Neutralisierung durchzuführen und damit auch auf lokal isolierenden Probenbereichen nur einen verschwindenden, aufladungsbedingten Energie-Shift realisiert. M3 - Schaltbare Ionenquelle: Cluster-Modus (GCIB) und Atom-Modus (monoatomar) aus einer Quelle mit Massenselektion. Das System muss eine Ionenquelle aufweisen, die zwischen einem Cluster-Ionenmodus (Gas Cluster Ion Beam, GCIB, Clustergröße variabel bis <= 2000 Ar-Atome/Cluster) und einem monoatomaren Ar-Modus umschalten kann, oder über zwei separat schaltbare Quellen verfügen. Die Massenauswahl muss durch einen Massen-Selektor sei es magnetisches Sektorfeld oder Wien-Filter erfolgen, der eine definierte Clustergrößenauswahl ermöglicht. Ein rein elektrostatisches Quadrupol-System käme bei dieser Clustergröße schon in den Grenzbereich. M4 - Integrierte optische Probenbeobachtung ohne Beeinträchtigung des Analysestrahlengangs. Das System muss eine koaxiale optische Probenbeobachtung ermöglichen, bei der der Beobachtungsstrahlengang koaxial mit dem Analysator-Eintritt ausgerichtet ist und der Analysator-Eingang durch einen perforierten Spiegel (Lochspiegel, 45°-Anordnung) freigehalten wird. M5 - Integrierte schnelle Tiefenprofilierung mit vernachlässigbarem Einfluss auf die chemische Struktur. Für die am Institut untersuchten Materialsysteme, darunter funktionale Oxidschichten, Batterieelektrodenmaterialien, Triboschichten verschleißbehafteter Bauteile sowie empfindliche Grenzflächen und dünne Schichten, ist es zwingend erforderlich, ein Abtragverfahren einzusetzen, das den Energieeintrag in die Probe auf ein Minimum reduziert und insbesondere keine relevanten thermischen oder impulsinduzierten Veränderungen verursacht. Oberflächen-Stöchiometrie, -Bindungszustände und Chemie sollen möglichst schonend auch über extreme Tiefenbereiche bis zu <100µm verfolgt werden können. Effekt durch Aufrauhung sollen möglichst vermieden werden. Vor diesem Hintergrund besteht die funktionale Mindestanforderung, dass das einzusetzende Tiefenprofilierungsverfahren weitgehend frei von thermischen Effekten sowie von stoßkaskadeninduzierten Impulseinträgen ist. Ausschließlich eine in das XPS-Vakuumsystem integrierte fs-Laserablation ist geeignet, die bestehenden methodischen Limitierungen konventioneller Sputterverfahren zu überwinden und gleichzeitig die erforderliche analytische Integrität der Proben sicherzustellen. Ex-situ-Ansätze scheiden aufgrund unvermeidbarer Reoxidations-, Kontaminations-, Positions- und Korrelationsprobleme als gleichwertige Alternative aus. Darüber hinaus ist die fs-Laserablation nach dem derzeitigen Stand der Technik die einzige praktikable Methode, um Tiefenprofile bis in den Bereich von 10 µm bis hin zu >= 100 µm unter Erhalt von Stöchiometrie und chemischen Bindungszuständen in vertretbaren Messzeiten zu realisieren. Konventionelle Ionensputterverfahren sind in diesem Tiefenbereich sowohl aus zeitlichen als auch aus physikalisch-methodischen Gründen nicht sinnvoll einsetzbar. Die in-situ fs-Laserablation stellt damit eine zwingende funktionale Voraussetzung dar, um valide Tiefenprofile auch bei komplexen, reaktiven und/oder dickschichtigen Materialsystemen zu ermöglichen und zentrale wissenschaftliche sowie auftragsbezogene Fragestellungen des Instituts überhaupt bearbeiten zu können. Das System muss daher zwingend eine Femtosekunden-(fs)-Laserablations-Einheit aufweisen, die folgende funktionalen Parameter erfüllt: -Pulsdauer: Femtosekundenbereich (< 1 ps) -Integration: Im selben Vakuumsystem wie XPS-Analysator -Zyklussteuerung: Automatisch: Ablation => XPS-Analyse => Wiederholung -Parametersteuerung: Automatische Anpassung von Pulsdauer, Energie, Repetitionsrate, Wellenlänge, Spotgröße durch Controller - Strahlprofil: Definiertes Top-Hat-Profil oder Gaus-artig, schaltbar -Polarisationssteuerung: Variable Polarisation (linear, zirkulär, elliptisch) oder Polarisationsrotation -Tiefenreichweite: > 50 µm (übersteigt Kapazität konventioneller Ionensputterprofilierung)

    CPV
    Spektrometer (CPV 38433000)
    Ort
    Kaiserslautern, Kreisfreie Stadt (DEB32)

Verlauf

  1. Zuschlag: Zuschlag. Zuschlag an: FEI Deutschland GmbH; Eingegangene Angebote: 1; Los LOT-0001.
  2. 17. Juni 2026, 19:52 Uhr (UTC+02:00): Erstbekanntmachung Bekanntmachung, Version 01 (Freiwillige Ex-ante-Transparenzbekanntmachung). Amtliche Bekanntmachung
  3. 9. Juli 2026, 13:40 Uhr (UTC+02:00): Zuschlagsbekanntmachung Bekanntmachung, Version 01 (Bekanntmachung vergebener Aufträge oder Zuschlagsbekanntmachung – Standardregelung). Amtliche Bekanntmachung

Auftraggeber und Ort

Auftraggeber

Institut für Oberflächen- und Schichttechnik GmbH
Kaiserslautern, DE

Leistungsort

  • Kaiserslautern, Kreisfreie Stadt (DEB32)

Weitere Beteiligte in der Bekanntmachung

  • Fei Deutschland GmbH /Thermo Fisher Scientific GmbH (Bieter), 63303
  • Fei Deutschland GmbH /Thermo Fisher Scientific GmbH (Zuschlag), 63303

Einordnung

CPV-Codes

  • 38433000: Spektrometer

NUTS-Regionen

  • DEB32: Kaiserslautern, Kreisfreie Stadt

Amtliche Unterlagen

In der indexierten Bekanntmachung wurden keine Unterlagen gefunden.

Fragen und Antworten

Wer ist der Auftraggeber?

Institut für Oberflächen- und Schichttechnik GmbH, Kaiserslautern, DE.

Was wird beschafft (CPV)?

Spektrometer (CPV 38433000).

Wo wird die Leistung erbracht (NUTS)?

Kaiserslautern, Kreisfreie Stadt (DEB32).

Ist die Ausschreibung in Lose aufgeteilt?

Nein, die Bekanntmachung nennt ein einziges Los.

Welche Verfahrensart gilt?

Verhandlungsverfahren ohne Aufruf zum Wettbewerb.

Wie gebe ich ein Angebot ab?

Über die amtliche Bekanntmachung oder das darin genannte Portal. Inteliwert gibt keine Angebote ab. Amtliche Bekanntmachung

Bin ich teilnahmeberechtigt?

Inteliwert beurteilt keine Teilnahmeberechtigung. Die Eignungskriterien stehen in der amtlichen Bekanntmachung. Amtliche Bekanntmachung

Weitere Ausschreibungen dieses Auftraggebers

Weitere veröffentlichte Ausschreibungen dieses Auftraggebers in den indexierten Bekanntmachungen, offene zuerst.

Quelle

Herausgeber
Bekanntmachungsservice
Lizenz
CC0 1.0
Zuletzt geprüft
11. November 2026, 14:31 Uhr (UTC+01:00)

Maßgeblich ist die amtliche Bekanntmachung. Inteliwert zeigt, was in ihr steht, und verlinkt sie.

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