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Spektrometer XPS 2026

At a glance

Institut für Oberflächen- und Schichttechnik GmbH is procuring Spectrometers (CPV 38433000) in Kaiserslautern, Kreisfreie Stadt (DEB32). It has been awarded. Procedure type: Negotiated without prior call for competition.

From the notice

Beschaffung eines bildgebenden Mikrobereichs-Röntgen-Photoelektronen-Spektrometer (µ-XPS) mit integrierten Analysemethoden

Key facts

Each fact is from the official notice, last checked 11 November 2026, 14:31 (UTC+01:00).

Status
AwardedOfficial notice · checked 11 Nov 2026, 14:31 (UTC+01:00)
Deadline
No deadline in the noticeOfficial notice · checked 11 Nov 2026, 14:31 (UTC+01:00)
Buyer
Institut für Oberflächen- und Schichttechnik GmbH, Kaiserslautern, DEOfficial notice · checked 11 Nov 2026, 14:31 (UTC+01:00)
Place of performance
Kaiserslautern, Kreisfreie Stadt (DEB32)Official notice · checked 11 Nov 2026, 14:31 (UTC+01:00)
Main CPV
Spectrometers (CPV 38433000)Official notice · checked 11 Nov 2026, 14:31 (UTC+01:00)
Procedure
Negotiated without prior call for competitionOfficial notice · checked 11 Nov 2026, 14:31 (UTC+01:00)
Lots
1Official notice · checked 11 Nov 2026, 14:31 (UTC+01:00)
First published
17 June 2026, 19:52 (UTC+02:00)Official notice · checked 11 Nov 2026, 14:31 (UTC+01:00)
Last published
9 July 2026, 13:40 (UTC+02:00)Official notice · checked 11 Nov 2026, 14:31 (UTC+01:00)

Fact sheet

Inteliwert fact sheet: Spektrometer XPS 2026 — Institut für Oberflächen- und Schichttechnik GmbH. A product of Bandpey GmbH.
The key facts of this page as an image (PNG, 1600 × 900), made from the official notice. © Bandpey GmbH; terms of use. Download the fact sheet

Lots (1)

  1. Lot LOT-0001: Spektrometer XPS 2026

    Die nachfolgend aufgeführten Funktionen stellen zwingende Mindestanforderungen für die Beschaffung dar. M1 - Bildgebende hochortsauflösende Röntgenphotoelektronenspektroskopie (XPS) als Kerntechnologie (µ-XPS). Das System muss Röntgenphotoelektronenspektroskopie (XPS) mit monochromatischer Al K(alpha)-Strahlung durchführen können. Die Energieauflösung muss <= 0,5 eV (FWHM Ag 3d5/2), auch auf isolierenden Proben betragen. Die laterale Auflösung muss <= 10 µm (Spotgröße) erreichen. Auch gefordert ist eine Bild-gebende XPS Analytik, bei der voll quantifizierbare Element-Konzentrations-Verteilungen aufgenommen werden können. Die möglichen Bildbereiche sollen dabei von ca. 100 Mikrometer Durchmesser bis in den Bereich mehrerer Millimeter reichen. Zudem ist (bei hohen Vergrößerungen) eine Lateralauflösung <=10 µm gefordert. Die technische Realisierung kann sowohl durch Rastern des Röntgenstrahls, Verfahren der Stage oder elektronenoptische Abbildungen der Analysator-Eintrittsblende erfolgen. Zudem sollen chemische Bindungszustände auch in der Bildgebung unterschieden werden können. Die Bildgebung muss zwingend auf isolierenden, magnetisierbaren, magnetischen Proben ohne entscheidende Verluste an Sensitivität, energetischer und räumlicher Auflösung möglich sein. Falls eine magnetische Immersionslinse unter der Probenebene genutzt wird muss der Anbieter nachweisen, dass auch stark magnetische Proben ohne Qualitätseinbußen charakterisiert werden können. M2 - Simultane Ladungsneutralisierung mit niederenergetischen Elektronen und Ar-Ionen. Das System muss über eine Ladungskompensation verfügen, die aus einer einzigen koaxialen Quelle oder aus zwei steuerungstechnisch gekoppelten Quellen simultan oder alternierend mit geeigneten Schaltzeiten niederenergetische Elektronen und Ar-Ionen emittiert, um so eine automatische, quasi-stationäre Neutralisierung durchzuführen und damit auch auf lokal isolierenden Probenbereichen nur einen verschwindenden, aufladungsbedingten Energie-Shift realisiert. M3 - Schaltbare Ionenquelle: Cluster-Modus (GCIB) und Atom-Modus (monoatomar) aus einer Quelle mit Massenselektion. Das System muss eine Ionenquelle aufweisen, die zwischen einem Cluster-Ionenmodus (Gas Cluster Ion Beam, GCIB, Clustergröße variabel bis <= 2000 Ar-Atome/Cluster) und einem monoatomaren Ar-Modus umschalten kann, oder über zwei separat schaltbare Quellen verfügen. Die Massenauswahl muss durch einen Massen-Selektor sei es magnetisches Sektorfeld oder Wien-Filter erfolgen, der eine definierte Clustergrößenauswahl ermöglicht. Ein rein elektrostatisches Quadrupol-System käme bei dieser Clustergröße schon in den Grenzbereich. M4 - Integrierte optische Probenbeobachtung ohne Beeinträchtigung des Analysestrahlengangs. Das System muss eine koaxiale optische Probenbeobachtung ermöglichen, bei der der Beobachtungsstrahlengang koaxial mit dem Analysator-Eintritt ausgerichtet ist und der Analysator-Eingang durch einen perforierten Spiegel (Lochspiegel, 45°-Anordnung) freigehalten wird. M5 - Integrierte schnelle Tiefenprofilierung mit vernachlässigbarem Einfluss auf die chemische Struktur. Für die am Institut untersuchten Materialsysteme, darunter funktionale Oxidschichten, Batterieelektrodenmaterialien, Triboschichten verschleißbehafteter Bauteile sowie empfindliche Grenzflächen und dünne Schichten, ist es zwingend erforderlich, ein Abtragverfahren einzusetzen, das den Energieeintrag in die Probe auf ein Minimum reduziert und insbesondere keine relevanten thermischen oder impulsinduzierten Veränderungen verursacht. Oberflächen-Stöchiometrie, -Bindungszustände und Chemie sollen möglichst schonend auch über extreme Tiefenbereiche bis zu <100µm verfolgt werden können. Effekt durch Aufrauhung sollen möglichst vermieden werden. Vor diesem Hintergrund besteht die funktionale Mindestanforderung, dass das einzusetzende Tiefenprofilierungsverfahren weitgehend frei von thermischen Effekten sowie von stoßkaskadeninduzierten Impulseinträgen ist. Ausschließlich eine in das XPS-Vakuumsystem integrierte fs-Laserablation ist geeignet, die bestehenden methodischen Limitierungen konventioneller Sputterverfahren zu überwinden und gleichzeitig die erforderliche analytische Integrität der Proben sicherzustellen. Ex-situ-Ansätze scheiden aufgrund unvermeidbarer Reoxidations-, Kontaminations-, Positions- und Korrelationsprobleme als gleichwertige Alternative aus. Darüber hinaus ist die fs-Laserablation nach dem derzeitigen Stand der Technik die einzige praktikable Methode, um Tiefenprofile bis in den Bereich von 10 µm bis hin zu >= 100 µm unter Erhalt von Stöchiometrie und chemischen Bindungszuständen in vertretbaren Messzeiten zu realisieren. Konventionelle Ionensputterverfahren sind in diesem Tiefenbereich sowohl aus zeitlichen als auch aus physikalisch-methodischen Gründen nicht sinnvoll einsetzbar. Die in-situ fs-Laserablation stellt damit eine zwingende funktionale Voraussetzung dar, um valide Tiefenprofile auch bei komplexen, reaktiven und/oder dickschichtigen Materialsystemen zu ermöglichen und zentrale wissenschaftliche sowie auftragsbezogene Fragestellungen des Instituts überhaupt bearbeiten zu können. Das System muss daher zwingend eine Femtosekunden-(fs)-Laserablations-Einheit aufweisen, die folgende funktionalen Parameter erfüllt: -Pulsdauer: Femtosekundenbereich (< 1 ps) -Integration: Im selben Vakuumsystem wie XPS-Analysator -Zyklussteuerung: Automatisch: Ablation => XPS-Analyse => Wiederholung -Parametersteuerung: Automatische Anpassung von Pulsdauer, Energie, Repetitionsrate, Wellenlänge, Spotgröße durch Controller - Strahlprofil: Definiertes Top-Hat-Profil oder Gaus-artig, schaltbar -Polarisationssteuerung: Variable Polarisation (linear, zirkulär, elliptisch) oder Polarisationsrotation -Tiefenreichweite: > 50 µm (übersteigt Kapazität konventioneller Ionensputterprofilierung)

    CPV
    Spectrometers (CPV 38433000)
    Place
    Kaiserslautern, Kreisfreie Stadt (DEB32)

Timeline

  1. Award: Award. Winner: FEI Deutschland GmbH; Tenders received: 1; Lot LOT-0001.
  2. 17 June 2026, 19:52 (UTC+02:00): Original notice Notice, version 01 (Voluntary ex-ante transparency notice). Official notice
  3. 9 July 2026, 13:40 (UTC+02:00): Award notice Notice, version 01 (Contract or concession award notice – standard regime). Official notice

Buyer and place

Buyer

Institut für Oberflächen- und Schichttechnik GmbH
Kaiserslautern, DE

Place of performance

  • Kaiserslautern, Kreisfreie Stadt (DEB32)

Other parties in the notice

  • Fei Deutschland GmbH /Thermo Fisher Scientific GmbH (Tenderer), 63303
  • Fei Deutschland GmbH /Thermo Fisher Scientific GmbH (Winner), 63303

Classification

CPV codes

  • 38433000: Spectrometers

NUTS regions

  • DEB32: Kaiserslautern, Kreisfreie Stadt

Official documents

No documents found in the indexed notice.

Questions and answers

Who is the buyer?

Institut für Oberflächen- und Schichttechnik GmbH, Kaiserslautern, DE.

What is being procured (CPV)?

Spectrometers (CPV 38433000).

Where is the work performed (NUTS)?

Kaiserslautern, Kreisfreie Stadt (DEB32).

Is it divided into lots?

No, the notice names a single lot.

Which procedure is used?

Negotiated without prior call for competition.

How do I submit a bid?

On the official notice or the portal it names. Inteliwert does not submit bids. Official notice

Am I eligible?

Inteliwert does not judge eligibility. The selection criteria are in the official notice. Official notice

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Source

Publisher
Bekanntmachungsservice
Licence
CC0 1.0
Last checked
11 November 2026, 14:31 (UTC+01:00)

The official notice is authoritative. Inteliwert shows what the notice states and links to it.

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