Hochtemperatur/ LP-CVD System für Mikrosystemtechnik und Nanotechnologie
Auf einen Blick
Westsächsische Hochschule Zwickau schreibt Maschinen für die Wärmebehandlung von Stoffen (CPV 42940000) in Zwickau (DED45) aus. Die Bekanntmachung nennt als Frist den 26. November 2026, 09:00 Uhr (UTC+01:00). Verfahrensart: Offenes Verfahren.
Eckdaten
Jede Angabe stammt aus der amtlichen Bekanntmachung, zuletzt geprüft am 26. Oktober 2026, 15:28 Uhr (UTC+01:00).
- Status
- OffenAmtliche Bekanntmachung · geprüft am 26.10.2026, 15:28 Uhr (UTC+01:00)
- Frist
- (in 19 Tagen)Amtliche Bekanntmachung · geprüft am 26.10.2026, 15:28 Uhr (UTC+01:00)
- Auftraggeber
- Westsächsische Hochschule Zwickau, Zwickau, DEAmtliche Bekanntmachung · geprüft am 26.10.2026, 15:28 Uhr (UTC+01:00)
- Leistungsort
- Zwickau (DED45)Amtliche Bekanntmachung · geprüft am 26.10.2026, 15:28 Uhr (UTC+01:00)
- Haupt-CPV
- Maschinen für die Wärmebehandlung von Stoffen (CPV 42940000)Amtliche Bekanntmachung · geprüft am 26.10.2026, 15:28 Uhr (UTC+01:00)
- Verfahrensart
- Offenes VerfahrenAmtliche Bekanntmachung · geprüft am 26.10.2026, 15:28 Uhr (UTC+01:00)
- Lose
- 1Amtliche Bekanntmachung · geprüft am 26.10.2026, 15:28 Uhr (UTC+01:00)
- Erstmals veröffentlicht
- 21. Oktober 2026, 08:45 Uhr (UTC+02:00)Amtliche Bekanntmachung · geprüft am 26.10.2026, 15:28 Uhr (UTC+01:00)
Faktenblatt
Lose (1)
Los LOT-0001: Hochtemperatur/ LP-CVD System für Mikrosystemtechnik und Nanotechnologie
1 STK Hochtemperaturanlage mit 8 Prozessstationen / Rohren mit Beladeeinrichtungen für Hochtemperatur- und LP-CVD Prozesse, vorwiegend für monokristalline Siliziumwafer. - Footprint der Gesamtanlage nicht größer als 400cm x 600cm x 295cm (L x B x H). - Besteht das Gesamtsystem aus mehreren Einzelanlagen / Teilen müssen alle Anlagen innerhalb des angegebenen Footprints aufgestellt werden können. - Vom angegebenen Footprint ausgenommen sind ausschließlich eine etwaige Bedienkonsole, diese darf separat auf einem max. 180cmx80cm messenden Tisch untergebracht werden und die Vakuum-Pumpen, welche innerhalb eines Service-Bereichs untergebracht werden dürfen. - Bei zwei gekoppelten Einzelanlagen: ist eine an der Rückwand gespiegelte Konfiguration (eine Anlage mit Beladestationen rechts, eine Anlage mit Beladestationen links) vorzusehen - Alle 8 Prozessstationen sind auf die parallele Bearbeitung von mindestens 13 Stück Wafer pro Prozess auszulegen. - Die verarbeitbaren Durchmesser der Wafer sind mindestens: o 150mm und o 100mm - Die Prozessstationen sind als horizontal angeordnete Prozessrohre mit jeweils einem Quarz- oder SiC-Rohr und jeweils einer automatischen/motorisierten Beladestation vorzusehen. - Der Ausleger (Paddle) zur Beladung ist aus Siliciumcarbid auszuführen. - Die Beladestation(en) sind mit Luftfiltereinheit(en) mit laminarer Luftströmung vorzusehen. - Jede Prozessstation ist mit jeweils mindestens 3 Temperaturregelzonen pro Prozessrohr auszuführen. - Jedes LP - CVD Prozessrohr ist mit einem integrierten Leckratetest / Druckverlustprofiling zu realisieren. - Innerhalb der Bearbeitungszone der min. 13 Prozesswafer (Flat-Zone) ist im Prozess eine Temperaturabweichung vom Sollwert von höchstens +/-1 K und eine Soll-Temperaturabweichung von Run zu Run höchstens +/-1 K zu erzielen. - Mindestens ein geeignetes Thermoelement pro Temperaturregelzone zur Prozessüberwachung und -regelung muss vorhanden sein. - Mindestens ein geeignetes Thermoelement pro Temperaturregelzone als Ausfallsicherung muss vorhanden sein. - Mindestens ein Profilthermoelement pro Prozessstation - Geeignete Messeinrichtungen zur Anlagenüberwachung und Steuerung in Bezug die technische Sicherheit (z.B. Übertemperaturabschaltung, Abluftausfall, Kühlwasserausfall, Gasversorgungsausfall, redundante Interlocks...) müssen vorhanden sein. - In den Gaskabinetten ist eine Prozessgaszuführung und -verteilung, Prozessgassteuerung und -überwachung nach Stand der Technik, abgestimmt auf die Eigenschaften der für die Prozessstationen spezifizierten Prozessgase und Flüssigkeiten zu realisieren. - Absaugung / Scavenger an der Prozessstation - Anlagensteuerung(en) mit Monitor und Benutzerschnittstelle, spätestens nach Ablauf der Garantie müssen alle Benutzer- und Servicelevel für die WHZ zugänglich dauerhaft sein werden - mehrere Prozessstationen können in einer Steuerung/Benutzerschnittstelle zusammengefasst werden - Bei Störung muss die Anlage selbsttätig in einen sicheren Zustand übergehen, wenn dazu eine unterbrechungsfreie Stromversorgung notwendig ist, ist diese mit zu inkludieren. - Maschinen Not-Aus Schalter, gesichert gegen Wiederanschalten - CE Zertifikat und CE Kennzeichnung für Gesamtanlage - Einhaltung der EU-Maschinenrichtlinie (2006/42/EC / oder 2023/1230, je nach Auslieferungsdatum), wo anwendbar - Vollständige Anlagendokumentation. 1 STK Prozessstation, Oxidation, n-Typ-Substrate - Dauerprozesstemperatur mindestens 1050°C - Quarz oder SiC Prozessrohr - Komplettes Gaszufuhrsystem mit Massenstromregelung für: Stickstoff, Wasserstoff, Sauerstoff, Dichlorethylen mit N2 Trägergas - Wasserstoff/Sauerstoff-Verbrenner zur Erzeugung von H2O und Injektion in den Ofen ("External Torch"), Überwachung und Sicherheitseinrichtungen nach Stand der Technik - Automatisiert, über die Anlage angesteuerter Bubbler mit Temperierung für 1,2-Dichlorethylen, 1500mL "Fuji"- kompatibel oder mitgelieferter Quarzbubbler. - Quartz Baffle / Diffusor, falls zur Erreichung der von Lieferer zu spezifizierenden Homogenität nötig 1 STK Prozessstation, Oxidation, p-Typ Substrate - Dauerprozesstemperatur mindestens 1050°C - Quarz oder SiC Prozessrohr - Komplettes Gaszufuhrsystem mit Massenstromregelung für: Stickstoff, Wasserstoff, Sauerstoff, Dichlorethylen mit N2 Trägergas - Wasserstoff/Sauerstoff-Verbrenner zur Erzeugung von H2O und Injektion in den Ofen ("External Torch"), Überwachung und Sicherheitseinrichtungen nach Stand der Technik - Automatisiert, über die Anlage angesteuerter Bubbler mit Temperierung für 1,2-Dichlorethylen, 1500mL "Fuji"- kompatibel oder mitgelieferter Quarzbubbler. - Quartz Baffle / Diffusor, falls zur Erreichung der von Lieferer zu spezifizierenden Homogenität nötig 1 STK Prozessstation, n-Dotierung - Prozesstemperatur mindestens 1000°C - Quarz oder SiC Prozessrohr, Phosphoroxychlorid Injektor und kompatibler Abgasstrang - Komplettes Gaszufuhrsystem mit Massenstromregelung für: Stickstoff, Sauerstoff und Phosphoroxychlorid mit N2 Trägergas - Bubbler für Phosphoroxychlorid, 1500mL "Fuji"- kompatibel oder mitgelieferter Quarzbubbler. - Baffle für Phosphoroxychlorid, dieser kann in Tür integriert sein, falls zur Erreichung der von Lieferer zu spezifizierenden Homogenität nötig - Separate Abgasführung mit Abscheider/Kondensor für Phosphorsäure 1 STK Prozessstation, p-Dotierung - Prozesstemperatur mindestens 1050°C - Quarz oder SiC Prozessrohr - Komplettes Gaszufuhrsystem mit Massenstromregelung für: Stickstoff, Sauerstoff, BBr3 mit N2 als Trägergas - BBr3 Injektor und kompatibler Abgasstrang - Bubbler für BBr3, 1500mL "Fuji"- kompatibel oder mitgelieferter Quarzbubbler. - Baffle für BBr3, falls zur Erreichung der von Lieferer zu spezifizierenden Homogenität nötig 1 STK Prozessstation, Oxidation - Dauerprozesstemperatur mindestens 1050°C - Quarz oder SiC Prozessrohr - Komplettes Gaszufuhrsystem mit Massenstromregelung für: Stickstoff, Wasserstoff, Sauerstoff, Dichlorethylen mit N2 Trägergas
Verlauf
- 21. Oktober 2026, 08:45 Uhr (UTC+02:00): Erstbekanntmachung Bekanntmachung, Version 01 (Auftrags- oder Konzessionsbekanntmachung – Standardregelung). Amtliche Bekanntmachung
Auftraggeber und Ort
Auftraggeber
Westsächsische Hochschule Zwickau
Zwickau, DE
Leistungsort
- Zwickau (DED45)
Einordnung
CPV-Codes
- 42940000: Maschinen für die Wärmebehandlung von Stoffen
- 42000000: Industrielle Maschinen
- 42942000: Öfen und Zubehör
NUTS-Regionen
- DED45: Zwickau
Amtliche Unterlagen
Die Links führen zum Herausgeber. Inteliwert kopiert die Unterlagen nicht.
Fragen und Antworten
Wann endet die Frist?
Die amtliche Bekanntmachung nennt als Frist den 26. November 2026, 09:00 Uhr (UTC+01:00).
Wer ist der Auftraggeber?
Westsächsische Hochschule Zwickau, Zwickau, DE.
Was wird beschafft (CPV)?
Maschinen für die Wärmebehandlung von Stoffen (CPV 42940000), Industrielle Maschinen (CPV 42000000) und Öfen und Zubehör (CPV 42942000).
Wo wird die Leistung erbracht (NUTS)?
Zwickau (DED45).
Ist die Ausschreibung in Lose aufgeteilt?
Nein, die Bekanntmachung nennt ein einziges Los.
Welche Verfahrensart gilt?
Offenes Verfahren.
Wie gebe ich ein Angebot ab?
Über die amtliche Bekanntmachung oder das darin genannte Portal. Inteliwert gibt keine Angebote ab. Amtliche Bekanntmachung
Bin ich teilnahmeberechtigt?
Inteliwert beurteilt keine Teilnahmeberechtigung. Die Eignungskriterien stehen in der amtlichen Bekanntmachung. Amtliche Bekanntmachung
Unternehmen, die passen könnten
Mögliche Passung auf Basis öffentlicher Angaben
Unternehmen aus den von Inteliwert erfassten Quellen, nicht der ganze Markt. Inteliwert beurteilt weder Eignung noch Passung oder Chancen.
LLT Applikation GmbH
IlmenauKMU (laut Zuschlagsbekanntmachung)Neu bei öffentlichen AufträgenClassOne Technology GmbH
Jettingen ScheppachKMU (laut Zuschlagsbekanntmachung)Neu bei öffentlichen AufträgenGesa Consulting Gesellschaft für - EMV-Technik mbH
TauberbischofsheimKMU (laut Zuschlagsbekanntmachung)- KMU (laut Zuschlagsbekanntmachung)Neu bei öffentlichen Aufträgen
ETeGO GmbH
MosbachKMU (laut Zuschlagsbekanntmachung)Neu bei öffentlichen Aufträgen
Quelle
- Herausgeber
- Bekanntmachungsservice
- Lizenz
- CC0 1.0
- Amtliche Bekanntmachung
- https://oeffentlichevergabe.de/ui/de/notices/ae5fd26c-1fae-40c3-b473-c6ce79dd8997
- Zuletzt geprüft
- 26. Oktober 2026, 15:28 Uhr (UTC+01:00)
Maßgeblich ist die amtliche Bekanntmachung. Inteliwert zeigt, was in ihr steht, und verlinkt sie.