Hochtemperatur/ LP-CVD System für Mikrosystemtechnik und Nanotechnologie
At a glance
Westsächsische Hochschule Zwickau is procuring Machinery for the heat treatment of materials (CPV 42940000) in Zwickau (DED45). The notice gives 26 November 2026, 09:00 (UTC+01:00) as the deadline. Procedure type: Open.
Key facts
Each fact is from the official notice, last checked 26 October 2026, 15:28 (UTC+01:00).
- Status
- OpenOfficial notice · checked 26 Oct 2026, 15:28 (UTC+01:00)
- Deadline
- (in 20 days)Official notice · checked 26 Oct 2026, 15:28 (UTC+01:00)
- Buyer
- Westsächsische Hochschule Zwickau, Zwickau, DEOfficial notice · checked 26 Oct 2026, 15:28 (UTC+01:00)
- Place of performance
- Zwickau (DED45)Official notice · checked 26 Oct 2026, 15:28 (UTC+01:00)
- Main CPV
- Machinery for the heat treatment of materials (CPV 42940000)Official notice · checked 26 Oct 2026, 15:28 (UTC+01:00)
- Procedure
- OpenOfficial notice · checked 26 Oct 2026, 15:28 (UTC+01:00)
- Lots
- 1Official notice · checked 26 Oct 2026, 15:28 (UTC+01:00)
- First published
- 21 October 2026, 08:45 (UTC+02:00)Official notice · checked 26 Oct 2026, 15:28 (UTC+01:00)
Fact sheet
Lots (1)
Lot LOT-0001: Hochtemperatur/ LP-CVD System für Mikrosystemtechnik und Nanotechnologie
1 STK Hochtemperaturanlage mit 8 Prozessstationen / Rohren mit Beladeeinrichtungen für Hochtemperatur- und LP-CVD Prozesse, vorwiegend für monokristalline Siliziumwafer. - Footprint der Gesamtanlage nicht größer als 400cm x 600cm x 295cm (L x B x H). - Besteht das Gesamtsystem aus mehreren Einzelanlagen / Teilen müssen alle Anlagen innerhalb des angegebenen Footprints aufgestellt werden können. - Vom angegebenen Footprint ausgenommen sind ausschließlich eine etwaige Bedienkonsole, diese darf separat auf einem max. 180cmx80cm messenden Tisch untergebracht werden und die Vakuum-Pumpen, welche innerhalb eines Service-Bereichs untergebracht werden dürfen. - Bei zwei gekoppelten Einzelanlagen: ist eine an der Rückwand gespiegelte Konfiguration (eine Anlage mit Beladestationen rechts, eine Anlage mit Beladestationen links) vorzusehen - Alle 8 Prozessstationen sind auf die parallele Bearbeitung von mindestens 13 Stück Wafer pro Prozess auszulegen. - Die verarbeitbaren Durchmesser der Wafer sind mindestens: o 150mm und o 100mm - Die Prozessstationen sind als horizontal angeordnete Prozessrohre mit jeweils einem Quarz- oder SiC-Rohr und jeweils einer automatischen/motorisierten Beladestation vorzusehen. - Der Ausleger (Paddle) zur Beladung ist aus Siliciumcarbid auszuführen. - Die Beladestation(en) sind mit Luftfiltereinheit(en) mit laminarer Luftströmung vorzusehen. - Jede Prozessstation ist mit jeweils mindestens 3 Temperaturregelzonen pro Prozessrohr auszuführen. - Jedes LP - CVD Prozessrohr ist mit einem integrierten Leckratetest / Druckverlustprofiling zu realisieren. - Innerhalb der Bearbeitungszone der min. 13 Prozesswafer (Flat-Zone) ist im Prozess eine Temperaturabweichung vom Sollwert von höchstens +/-1 K und eine Soll-Temperaturabweichung von Run zu Run höchstens +/-1 K zu erzielen. - Mindestens ein geeignetes Thermoelement pro Temperaturregelzone zur Prozessüberwachung und -regelung muss vorhanden sein. - Mindestens ein geeignetes Thermoelement pro Temperaturregelzone als Ausfallsicherung muss vorhanden sein. - Mindestens ein Profilthermoelement pro Prozessstation - Geeignete Messeinrichtungen zur Anlagenüberwachung und Steuerung in Bezug die technische Sicherheit (z.B. Übertemperaturabschaltung, Abluftausfall, Kühlwasserausfall, Gasversorgungsausfall, redundante Interlocks...) müssen vorhanden sein. - In den Gaskabinetten ist eine Prozessgaszuführung und -verteilung, Prozessgassteuerung und -überwachung nach Stand der Technik, abgestimmt auf die Eigenschaften der für die Prozessstationen spezifizierten Prozessgase und Flüssigkeiten zu realisieren. - Absaugung / Scavenger an der Prozessstation - Anlagensteuerung(en) mit Monitor und Benutzerschnittstelle, spätestens nach Ablauf der Garantie müssen alle Benutzer- und Servicelevel für die WHZ zugänglich dauerhaft sein werden - mehrere Prozessstationen können in einer Steuerung/Benutzerschnittstelle zusammengefasst werden - Bei Störung muss die Anlage selbsttätig in einen sicheren Zustand übergehen, wenn dazu eine unterbrechungsfreie Stromversorgung notwendig ist, ist diese mit zu inkludieren. - Maschinen Not-Aus Schalter, gesichert gegen Wiederanschalten - CE Zertifikat und CE Kennzeichnung für Gesamtanlage - Einhaltung der EU-Maschinenrichtlinie (2006/42/EC / oder 2023/1230, je nach Auslieferungsdatum), wo anwendbar - Vollständige Anlagendokumentation. 1 STK Prozessstation, Oxidation, n-Typ-Substrate - Dauerprozesstemperatur mindestens 1050°C - Quarz oder SiC Prozessrohr - Komplettes Gaszufuhrsystem mit Massenstromregelung für: Stickstoff, Wasserstoff, Sauerstoff, Dichlorethylen mit N2 Trägergas - Wasserstoff/Sauerstoff-Verbrenner zur Erzeugung von H2O und Injektion in den Ofen ("External Torch"), Überwachung und Sicherheitseinrichtungen nach Stand der Technik - Automatisiert, über die Anlage angesteuerter Bubbler mit Temperierung für 1,2-Dichlorethylen, 1500mL "Fuji"- kompatibel oder mitgelieferter Quarzbubbler. - Quartz Baffle / Diffusor, falls zur Erreichung der von Lieferer zu spezifizierenden Homogenität nötig 1 STK Prozessstation, Oxidation, p-Typ Substrate - Dauerprozesstemperatur mindestens 1050°C - Quarz oder SiC Prozessrohr - Komplettes Gaszufuhrsystem mit Massenstromregelung für: Stickstoff, Wasserstoff, Sauerstoff, Dichlorethylen mit N2 Trägergas - Wasserstoff/Sauerstoff-Verbrenner zur Erzeugung von H2O und Injektion in den Ofen ("External Torch"), Überwachung und Sicherheitseinrichtungen nach Stand der Technik - Automatisiert, über die Anlage angesteuerter Bubbler mit Temperierung für 1,2-Dichlorethylen, 1500mL "Fuji"- kompatibel oder mitgelieferter Quarzbubbler. - Quartz Baffle / Diffusor, falls zur Erreichung der von Lieferer zu spezifizierenden Homogenität nötig 1 STK Prozessstation, n-Dotierung - Prozesstemperatur mindestens 1000°C - Quarz oder SiC Prozessrohr, Phosphoroxychlorid Injektor und kompatibler Abgasstrang - Komplettes Gaszufuhrsystem mit Massenstromregelung für: Stickstoff, Sauerstoff und Phosphoroxychlorid mit N2 Trägergas - Bubbler für Phosphoroxychlorid, 1500mL "Fuji"- kompatibel oder mitgelieferter Quarzbubbler. - Baffle für Phosphoroxychlorid, dieser kann in Tür integriert sein, falls zur Erreichung der von Lieferer zu spezifizierenden Homogenität nötig - Separate Abgasführung mit Abscheider/Kondensor für Phosphorsäure 1 STK Prozessstation, p-Dotierung - Prozesstemperatur mindestens 1050°C - Quarz oder SiC Prozessrohr - Komplettes Gaszufuhrsystem mit Massenstromregelung für: Stickstoff, Sauerstoff, BBr3 mit N2 als Trägergas - BBr3 Injektor und kompatibler Abgasstrang - Bubbler für BBr3, 1500mL "Fuji"- kompatibel oder mitgelieferter Quarzbubbler. - Baffle für BBr3, falls zur Erreichung der von Lieferer zu spezifizierenden Homogenität nötig 1 STK Prozessstation, Oxidation - Dauerprozesstemperatur mindestens 1050°C - Quarz oder SiC Prozessrohr - Komplettes Gaszufuhrsystem mit Massenstromregelung für: Stickstoff, Wasserstoff, Sauerstoff, Dichlorethylen mit N2 Trägergas
Timeline
- 21 October 2026, 08:45 (UTC+02:00): Original notice Notice, version 01 (Contract or concession notice – standard regime). Official notice
Buyer and place
Buyer
Westsächsische Hochschule Zwickau
Zwickau, DE
Place of performance
- Zwickau (DED45)
Classification
CPV codes
- 42940000: Machinery for the heat treatment of materials
- 42000000: Industrial machinery
- 42942000: Ovens and accessories
NUTS regions
- DED45: Zwickau
Official documents
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Questions and answers
When is the deadline?
The official notice gives 26 November 2026, 09:00 (UTC+01:00) as the deadline.
Who is the buyer?
Westsächsische Hochschule Zwickau, Zwickau, DE.
What is being procured (CPV)?
Machinery for the heat treatment of materials (CPV 42940000), Industrial machinery (CPV 42000000) and Ovens and accessories (CPV 42942000).
Where is the work performed (NUTS)?
Zwickau (DED45).
Is it divided into lots?
No, the notice names a single lot.
Which procedure is used?
Open.
How do I submit a bid?
On the official notice or the portal it names. Inteliwert does not submit bids. Official notice
Am I eligible?
Inteliwert does not judge eligibility. The selection criteria are in the official notice. Official notice
Companies that might fit
Possible match based on public information
Companies Inteliwert knows from its sources, not the whole market. Inteliwert does not judge eligibility, fit or chances.
LLT Applikation GmbH
IlmenauSME (from the award notice)New to public tendersClassOne Technology GmbH
Jettingen ScheppachSME (from the award notice)New to public tendersGesa Consulting Gesellschaft für - EMV-Technik mbH
TauberbischofsheimSME (from the award notice)- SME (from the award notice)New to public tenders
ETeGO GmbH
MosbachSME (from the award notice)New to public tenders
Source
- Publisher
- Bekanntmachungsservice
- Licence
- CC0 1.0
- Last checked
- 26 October 2026, 15:28 (UTC+01:00)
The official notice is authoritative. Inteliwert shows what the notice states and links to it.