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VergebenAusschreibung

Plasma-Ätzanlage - PR1241915-2270-W

Auf einen Blick

Fraunhofer-Gesellschaft, Einkauf B12 schreibt Halbleiter (CPV 31712330) in München, Landkreis (DE21H) aus. Der Zuschlag ist erteilt. Verfahrensart: Verhandlungsverfahren ohne Aufruf zum Wettbewerb.

Aus der Bekanntmachung

Plasma-Ätzanlage

Eckdaten

Jede Angabe stammt aus der amtlichen Bekanntmachung, zuletzt geprüft am 7. November 2026, 12:30 Uhr (UTC+01:00).

Status
VergebenAmtliche Bekanntmachung · geprüft am 07.11.2026, 12:30 Uhr (UTC+01:00)
Frist
Keine Frist in der BekanntmachungAmtliche Bekanntmachung · geprüft am 07.11.2026, 12:30 Uhr (UTC+01:00)
Auftraggeber
Fraunhofer-Gesellschaft, Einkauf B12, München, DEAmtliche Bekanntmachung · geprüft am 07.11.2026, 12:30 Uhr (UTC+01:00)
Leistungsort
München, Landkreis (DE21H)Amtliche Bekanntmachung · geprüft am 07.11.2026, 12:30 Uhr (UTC+01:00)
Haupt-CPV
Halbleiter (CPV 31712330)Amtliche Bekanntmachung · geprüft am 07.11.2026, 12:30 Uhr (UTC+01:00)
Verfahrensart
Verhandlungsverfahren ohne Aufruf zum WettbewerbAmtliche Bekanntmachung · geprüft am 07.11.2026, 12:30 Uhr (UTC+01:00)
Lose
1Amtliche Bekanntmachung · geprüft am 07.11.2026, 12:30 Uhr (UTC+01:00)
Erstmals veröffentlicht
17. September 2026, 09:08 Uhr (UTC+02:00)Amtliche Bekanntmachung · geprüft am 07.11.2026, 12:30 Uhr (UTC+01:00)

Faktenblatt

Inteliwert-Faktenblatt: Plasma-Ätzanlage - PR1241915-2270-W – Fraunhofer-Gesellschaft, Einkauf B12. Ein Produkt der Bandpey GmbH.
Die Eckdaten dieser Seite als Bild (PNG, 1600 × 900), erstellt aus der amtlichen Bekanntmachung. © Bandpey GmbH; Nutzungsbedingungen. Faktenblatt herunterladen

Lose (1)

  1. Los LOT-0000: Plasma-Ätzanlage - PR1241915-2270-W

    Many areas of semiconductors, MEMS, and 3D integration technologies - such as microfluidics, physical, optical, and chemical sensors, and emerging quantum mechanical devices such as so-called Qubits and their integration into silicon substrates - utilize the excellent properties of silicon. In particular, high-precision structuring methods have been developed for these applications. Micro- and nanochannels, membranes, valves, cantilevers, and through-silicon vias are manufactured using Si deep reactive ion etching (Si-DRIE) technology. As a standard etching gas, SF6 is employed in Silicon Deep Reactive Ion Etching (Si-DRIE) processes. SF6 is a potent greenhouse gas with a high global warming potential (GWP) of 25.300 CO2-equivalents. Although the semiconductor industry currently benefits from an exemption regarding SF6 usage, the duration of this exemption remains uncertain. Consequently, the identification of alternative gases to replace SF6 is becoming more important. One promising alternative is F2 gas mixtures. However, their implementation requires specialized modifications to both gas infrastructure and process kits. Hence, in addition to its fluorine compatibility, the requirements for the novel etching system should include scalability and a minimized process chamber volume compared to conventional plasma etching systems. This reduction in chamber volume decreases the total gas flow required, thereby enabling nearly complete gas utilization while minimizing gas-wall interactions. Consequently, faster gas switching times can be achieved in Bosch processes. A key feature of this new developed etching system is its "Green Production" concept, which focuses on the minimization and prevention of environmentally harmful gases. Furthermore, the system enables straightforward scaling of substrate sizes from 150 mm to 200 mm.

    CPV
    Halbleiter (CPV 31712330)
    Ort
    München, Landkreis (DE21H)

Verlauf

  1. 15. September 2026: Zuschlag. Zuschlag an: HQ-Dielectrics GmbH; Eingegangene Angebote: 1; Los LOT-0000.
  2. 17. September 2026, 09:08 Uhr (UTC+02:00): Zuschlagsbekanntmachung Bekanntmachung, Version 01 (Bekanntmachung vergebener Aufträge oder Zuschlagsbekanntmachung – Standardregelung). Amtliche Bekanntmachung

Auftraggeber und Ort

Auftraggeber

Fraunhofer-Gesellschaft, Einkauf B12
München, DE

Leistungsort

  • München, Landkreis (DE21H)

Weitere Beteiligte in der Bekanntmachung

  • HQ-Dielectrics GmbH (Bieter), Dornstadt
  • HQ-Dielectrics GmbH (Zuschlag), Dornstadt

Einordnung

CPV-Codes

  • 31712330: Halbleiter

NUTS-Regionen

  • DE21H: München, Landkreis

Amtliche Unterlagen

In der indexierten Bekanntmachung wurden keine Unterlagen gefunden.

Fragen und Antworten

Wer ist der Auftraggeber?

Fraunhofer-Gesellschaft, Einkauf B12, München, DE.

Was wird beschafft (CPV)?

Halbleiter (CPV 31712330).

Wo wird die Leistung erbracht (NUTS)?

München, Landkreis (DE21H).

Ist die Ausschreibung in Lose aufgeteilt?

Nein, die Bekanntmachung nennt ein einziges Los.

Welche Verfahrensart gilt?

Verhandlungsverfahren ohne Aufruf zum Wettbewerb.

Wie gebe ich ein Angebot ab?

Über die amtliche Bekanntmachung oder das darin genannte Portal. Inteliwert gibt keine Angebote ab. Amtliche Bekanntmachung

Bin ich teilnahmeberechtigt?

Inteliwert beurteilt keine Teilnahmeberechtigung. Die Eignungskriterien stehen in der amtlichen Bekanntmachung. Amtliche Bekanntmachung

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Quelle

Herausgeber
Bekanntmachungsservice
Lizenz
CC0 1.0
Zuletzt geprüft
7. November 2026, 12:30 Uhr (UTC+01:00)

Maßgeblich ist die amtliche Bekanntmachung. Inteliwert zeigt, was in ihr steht, und verlinkt sie.

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